本文目錄一覽：

• 1、pvd(物理氣相沉積)是什么?
• 2、機夾刀片的表面涂層是什么材料?急
• 3、刀片的涂層有CVD和PVD兩種,兩者的區(qū)別是什么?

pvd(物理氣相沉積)是什么?

1、物理氣相沉積技術(PVD)是利用熱蒸發(fā)、離子濺射或輝光放電等物理過程，在基體表面沉積所需涂層的技術。物理氣相沉積可鍍制金屬、合金、氧化物、氮化物、碳化物等膜層；膜層附著能力強，工藝溫度低，一般無或很少變形。

2、PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。

3、PVD：物理氣相沉積：指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

4、PVD(Physical Vapor Deposition)是物理氣相沉積：指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。

機夾刀片的表面涂層是什么材料?急

是涂層 通過化學氣相沉積(CVD)等方法，在硬質(zhì)合金刀片的表面上涂覆耐磨的TiC或TiN、HfN、Al2O3等薄 層，形成表面涂層硬質(zhì)合金。這是現(xiàn)代硬質(zhì)合金研制技術的重要進展。

有很多種，大的方面主要是分氮化鈦，氮鋁化鈦，在根據(jù)不同的需求，在氮鋁化鈦的基本上加入含硅、高鋁、含鉻，含鈷、碳化鈦等。

涂層材料須具有硬度高、耐磨性好、化學性能穩(wěn)定、不與工件材料發(fā)生化學反應、耐熱耐氧化、摩擦因數(shù)低，以及與基體附著牢固等要求。顯然，單一的涂層材料很難滿足上述各項要求。

刀片的涂層有CVD和PVD兩種,兩者的區(qū)別是什么?

1、PVD(Physical Vapor Deposition)---物理氣相沉積：指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。

2、PVD：用物理方法(如蒸發(fā)、濺射等)，使鍍膜材料汽化在基體表面，沉積成覆蓋層的方法。CVD：用化學方法使氣體在基體材料表面發(fā)生化學反應并形成覆蓋層的方法。

3、涂層過程顯示與襯底結合具有擴散類型的特點。

4、沒有絕對各有利弊 pvd 結合力沒有cvd好 但是pvd致密性更好 cvd厚度好。

5、生產(chǎn)上常用的涂層方法有兩種：物理氣相沉積（PVD) 法和化學氣相沉積（CVD) 法。前者沉積溫度為500℃，涂層厚度為2~5μm；后者的沉積溫度為900℃~1100℃，涂層厚度可達5~10μm，并且設備簡單，涂層均勻。

6、PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。